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DEEPX、2nm AIチップ開発でサムスンと提携

Generatived

25/8/22 9:00

韓国ソウル – DEEPXは、革新的なAIチップ「DX-M2」の2nmプロセス開発において、 Samsung FoundryおよびGaonchipsと重要な契約を締結しました。この協業により、DEEPXはSamsung Foundryの最先端2nm Gate-All-Around技術の最初の商用顧客となり、様々なデバイスにおける生成型AI推論の能力向上に貢献します。DX-M2プロセッサのプロトタイプ生産は2026年上半期に開始され、2027年までに量産開始を目指します。

この提携は、韓国の半導体産業を強化し、世界的な2nm AI半導体フレームワークの構築を加速させると期待されます。DEEPXは、厳しい電力制約の中で高い計算能力が求められるオンデバイス生成AIの課題に対処するため、戦略的に2nm GAAプロセスを確保しました。この2nmプロセスは、DEEPXの現行DX-M1チップに使用されている5nmプロセスと比較して2倍の電力効率を実現すると予想されており、同社の技術的野心にとって不可欠な大きな進歩となります。

DEEPXの5nmプロセスに基づくDX-M1チップは、既にロボット工学、スマートカメラ、ファクトリーオートメーションといった分野で世界中で活用されています。近日発売予定のDX-M2チップは、AI中心の社会への移行をリードするという同社のビジョンに合致し、生成型AIとマルチモーダルAIへのリーチを拡大します。DX-M2は、データセンター依存のAIを、デバイス上で動作するソリューションに置き換え、電力効率の向上と二酸化炭素排出量の削減を実現することを目指しています。大規模なAIモデルでリアルタイム推論を実行しながら低消費電力を維持するように設計されており、業界の新たな基準を確立します。

DX-M2チップは、DEEPXのイノベーションへのコミットメントを証明するだけでなく、AI技術の民主化に向けた一歩でもあります。2nmプロセスをAIアーキテクチャに統合することで、DEEPXは既存のAIソリューションに伴うコストと消費電力の障壁を取り除くことを目指しています。同社の目標は、高度なAI技術への広範かつ持続可能なアクセスを促進し、その大量導入と産業化への道を切り開くことです。

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